02.04.2022 12:02
1138

В России создадут отечественное оборудование для производства чипов

К 2026 году в России создадут отечественное литографическое оборудование для печати чипов на кремниевых пластинах согласно нормам 130–65 нм техпроцесса. Об этом пишет «Коммерсантъ» со ссылкой на данные тендера Минпромторга стоимостью 5,7 млрд. рублей. В рамках тендера предполагается проведение разработки отечественной фотолитографической установки с минимальной топологией 130 нм.
Победителем конкурса стал АО «Зеленоградский нанотехнологический центр», который должен выполнить работы до ноября 2026 года. Согласно имеющимся данным, установка должна состоять из специального оптического устройства, в том числе системы загрузки фотошаблона, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и программного обеспечения.
«Одним из основных компонентов оборудования станет отечественный лазер. Мы рассматриваем несколько партнёров», — сообщил генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв.
По мнению специалистов, в случае успешной реализации данного проекта на разработанном оборудовании можно будет производить чипы топологией от 130 до 65 нм. Такие чипы продолжают оставаться востребованным продуктом для интернета вещей, кассового оборудования и автомобильной электроники. Источник отмечает, что компания Intel начала выпускать 65-нанометровые процессоры Pentium 4 ещё в 2006 году.
Отсутствие оборудования является одной из основных проблем развития отечественной отрасли радиоэлектроники. До 2030 года планируется осуществить разработку оборудования с проектными нормами 250–28 нм, а также решения для норм 22–20 нм и 16–14 нм, следует из отраслевой стратегии, утверждённой правительством РФ в январе 2020 года.
Подписывайтесь на наш телеграм-канал «INFORMER», чтобы быть в курсе всех новостей и событий!